中微公司（688012）股票价值分析及投资建议报告

一、公司概况与行业地位

中微公司（688012）是国内半导体设备领域的领军企业，专注于高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售。公司瞄准世界科技前沿，基于在半导体设备制造产业多年积累的专业技术，涉足半导体集成电路制造、先进封装、LED外延片生产、功率器件、MEMS制造等多个微观工艺领域。

在半导体设备行业中，中微公司具有显著的技术优势和市场地位。其刻蚀设备技术壁垒高，占晶圆制造设备市场约20%份额，5nm以下刻蚀技术已通过台积电验证，2025年上半年刻蚀设备收入同比增长40%，LPCVD设备收入增长超600%。公司是国内唯一覆盖刻蚀、薄膜沉积、清洗、热处理全环节的平台型设备商，28nm设备量产，14nm进入验证阶段，技术实力和市场份额均处于行业前列。

二、财务表现分析

（一）营收与利润

2025年上半年，中微公司实现营收49.61亿元，同比增长43.88%；归母净利润7.06亿元，同比增长36.62%。营收增长主要得益于国内晶圆厂资本开支持续扩张，公司半导体设备业务实现快速增长。利润增长则受益于营收增长带来的毛利增加，以及公允价值变动收益和投资收益的增长。2025年上半年，公司产生公允价值变动收益和投资收益合计约1.68亿元，较2024年上半年亏损的0.08亿元增加约1.76亿元。

（二）毛利率与净利率

2025年上半年，公司整体毛利率和净利率分别为39.86%（-1.46pctYoY）和13.83%（-1.14pctYoY）。毛利率略有下降，主要是由于公司给予部分客户销售折扣，以及持续加大新品的研发投入导致成本上升。尽管如此，公司的毛利率仍保持在较高水平，显示出较强的盈利能力。

（三）研发投入

中微公司高度重视研发投入，2025年上半年研发投入总额14.92亿元，较上年同期增加53.70%，研发投入总额占营业收入比例为30.07%，远高于科创板上市公司的平均研发投入水平（10%-15%）。公司目前在研项目涵盖六类设备，包含多个关键制程工艺的核心设备开发，为公司的长期发展奠定了坚实的技术基础。

三、产品与技术分析

（一）刻蚀设备

中微公司的刻蚀设备是其核心产品之一，包括CCP刻蚀设备和ICP刻蚀设备。CCP刻蚀设备中双反应台机型PrimoD-RIE、PrimoAD-RIE、PrimoADRIE-e和单反应台机型PrimoHD-RIE等产品已广泛应用于国内外一线客户的生产线。用于高精度高选择比刻蚀工艺的单反应台产品PrimoHD-RIEe和用于超高深宽比刻蚀工艺的PrimoUD-RIE持续获得客户订单，截至2025年上半年，CCP刻蚀设备累计装机量超过4500个反应台，较2024年同期增长超过900个反应台。

ICP刻蚀设备在涵盖逻辑、DRAM、3DNAND、功率和电源管理、以及微电机系统等芯片和器件的50多个客户的生产线上大规模量产，并继续验证更多ICP刻蚀工艺。公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，在先进逻辑器件和先进存储器件中多种关键刻蚀工艺实现大规模量产。

（二）薄膜沉积设备

中微公司近两年新开发的LPCVD薄膜设备和ALD薄膜设备进展顺利。LPCVD设备2024年实现首台销售，全年设备销售约1.56亿元，2025年上半年销售约1.99亿元，同比增长608.19%，累计出货量已突破150个反应台，得到约4.76亿元批量订单。ALD薄膜设备也有多款新型设备产品进入市场并获得重复性订单。此外，公司EPI设备研发团队通过基础研究和采纳关键客户的技术反馈，开发出具有自主知识产权及创新的平台、预处理和外延反应腔，目前公司减压EPI设备已顺利付运成熟制程客户进行量产验证，并已经进入先进制程工艺验证和客户验证阶段。

（三）新产品发布

随着半导体技术的迭代升级，等离子体刻蚀、原子层沉积及外延等技术的应用需求持续攀升。中微公司近日推出六款半导体设备新产品，覆盖等离子体刻蚀、原子层沉积及外延等关键工艺。在刻蚀技术方面，发布的两款新品分别在极高深宽比刻蚀及金属刻蚀领域为客户提供领先和高效的解决方案；在薄膜沉积技术方面，发布的四款新品包括三款原子层沉积产品以及一款外延产品，其中12英寸原子层沉积产品能够满足先进逻辑与先进存储器件在金属栅方面的应用需求，外延设备凭借卓越的工艺适应性和兼容性，可满足从成熟到先进节点的逻辑、存储和功率器件等多领域外延工艺需求。

四、市场与竞争分析

（一）市场需求

中国的集成电路和泛半导体产业近年来持续兴旺，已成为国民经济发展的最重要引擎之一。随着数码产业的发展，全球半导体芯片和晶圆制造领域的持续投资，促进了半导体设备行业的发展。SEMI《全球半导体设备市场统计报告》显示，2022年全球芯片设备支出预计在去年增长43.8%的基础上，又将比去年同期增长20%，创下1090亿美元的历史新高。中国大陆的集成电路和泛半导体产业规模在全球的占比逐年提升，已经占到了25%，连续两年达到全球设备市场的第一位。

（二）竞争格局

在半导体设备行业中，中微公司面临着来自国内外众多竞争对手的挑战。国内方面，北方华创等企业也在半导体设备领域积极布局，北方华创实现28nm及以上成熟制程刻蚀设备全覆盖，14nm设备进入验证阶段，平台化布局优势显著。国际方面，ASML、应用材料等巨头在技术、市场等方面具有强大优势，且加速技术封锁，给国产设备验证周期带来一定压力。然而，中微公司凭借其技术实力、产品性能和客户服务等方面的优势，在国内市场占据了一定的份额，并逐步拓展国际市场。

五、投资风险分析

（一）下游客户扩产不及预期的风险

若下游晶圆厂和LED芯片制造商的后续投资不及预期，对相关设备的采购需求减弱，这将影响中微公司的订单量，进而对公司的业绩产生不利影响。

（二）新产品研发不及预期风险

半导体设备行业技术迭代迅速，若中微公司新产品研发不及预期，无法及时推出满足市场需求的新产品，将影响公司长远发展，导致市场份额下降。

（三）国际贸易摩擦风险

近年来，国际贸易摩擦不断，如果中美贸易摩擦继续恶化，公司的生产运营将受到一定影响，如关键零部件供应受限、技术合作受阻等。

（四）供应链依赖风险

高端零部件（如光刻机镜头、精密传感器）仍依赖进口，若供应链出现问题，如供应商断供、价格上涨等，将影响公司的生产进度和成本控制。

六、投资建议

（一）长期投资价值

中微公司作为国内半导体设备平台型领军厂商，具有显著的技术优势和市场份额。随着国内半导体产业的持续发展和国产替代进程的加速，公司将持续受益于下游扩产、技术升级与国产替代进程。预计未来五到十年，公司将通过自主研发以及携手行业合作伙伴，覆盖集成电路关键领域包括刻蚀、薄膜等超过60%的设备市场，工艺覆盖度不断完善，国内份额持续提升。因此，从长期来看，中微公司具有较高的投资价值。

（二）短期投资策略

短期内，半导体设备行业受市场需求、技术迭代和国际贸易形势等因素影响较大，股价波动可能较为剧烈。投资者可关注公司的季度财报、新产品发布、重大合同签订等事件，结合市场行情和技术面分析，灵活调整投资策略。例如，在公司发布利好消息或股价处于相对低位时，可适当增加持仓；在股价大幅上涨或市场风险偏好下降时，可考虑部分获利了结。

（三）机构评级参考

多家机构对中微公司给出了积极评级。中邮证券给予“买入”评级，预计公司2025/2026/2027年分别实现收入121/157/198亿元，分别实现归母净利润21/32/45亿元；华安证券给予“买入”评级；交银国际证券首予“买入”评级；群益证券给予“增持”评级。投资者可参考机构评级，但需注意机构评级仅供参考，不能完全替代自身的投资分析和判断。